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上海金緯擠出機械制造有限公司狹縫涂布機生產(chǎn)線簡介

2017/6/1 22:50:27      點擊:

上海金緯擠出機械制造有限公司狹縫涂布機生產(chǎn)線簡介


結(jié)合多年的經(jīng)驗及不斷的研發(fā)。金緯擠出公司隆重推出TBJ600系列狹縫式涂布頭,它是一種精密涂布技術(shù),具有涂布速度快、涂膜均勻性好、涂層厚度均勻可控等顯著優(yōu)點。狹縫式涂布是接觸式涂布,沒有背壓橡膠輥。因此由于背壓輥加壓產(chǎn)生的一些潛在不利因素就被消除了。



狹縫涂布技術(shù) 


狹縫涂布相對于輥涂和其它傳統(tǒng)的涂布方式而言是一種更高效和更好控制的涂布方式。

主要技術(shù)參數(shù)



狹縫涂布技術(shù)具備下列特點:


1) 可以將很薄的涂層涂到很薄的材料上。由于無背壓輥,在涂布面沒有“膠印”、皺褶等缺陷。能涂布1~100μ的厚度;10 ~100gsm(濕涂量);線速度:大約300mpm;用于光學(xué)膜涂布,擠出涂布的涂布速度在30m/min左右是比較合適的。

2) 能涂布不連續(xù)模式。由于沒有背壓輥,料膜的邊緣部也可涂上膠,而不用擔心膠液涂到背壓輥上而影響涂布。

3) 能從事大面積一次涂部 , 不會產(chǎn)生邊緣厚度不同造成的污漬現(xiàn)象。

4) 清洗拆卸容易。

5) 適用寬廣的黏度:500~5,000 cps。


 

應(yīng)用案例


1 電子領(lǐng)域:遮光膜,0.05 micron涂層厚度;耐刮擦熱ITO導(dǎo)電膜;絕緣與多層導(dǎo)電線路板;LCD背光源膜組;新型平面照明;透明導(dǎo)電樹脂層;存儲磁帶及存儲材料;觸摸屏的硬質(zhì)保護膜等

2 圖像材料領(lǐng)域:數(shù)字出版打印層;菲林膠片;自動化標簽等;

3 醫(yī)用材料:自粘膠帶、帶有涂層的醫(yī)用材料,如試驗材料等;

4 光學(xué)領(lǐng)域:各種光學(xué)膜,如反射膜,增光膜等;各種玻璃用隔熱膜等

5 電池行業(yè):鋰電池用材料

6 工業(yè)自動化領(lǐng)域:各種復(fù)合用膠帶;薄的化學(xué)反應(yīng)涂層;其他改變表面性能的涂覆材料。如太陽能電池背板,耐摩擦材料,特氟龍材料等。

 

 

涂布采用的熱熔膠是一門綠色環(huán)保型的涂布包裝技術(shù)。熱熔膠,顧名思義是一種受熱后成為熔融狀態(tài),經(jīng)涂布而將各種材料粘合在一起的膠。熱熔膠和其他粘合劑相比有如下特點:100%固體組成,不含溶劑和水的成分;具有熱可塑性,即可以反復(fù)受熱熔化和降溫凝固,此過程可逆,熱熔膠的化學(xué)物理性質(zhì)不會因此而改變;熱熔膠必須在受熱成為熔融狀態(tài)下才能涂布;熱熔膠經(jīng)冷卻凝固而產(chǎn)生粘合力。


熱熔膠自從問世以來,由于其粘接強度大,固化速度快等優(yōu)點,被廣泛應(yīng)用于食品包裝、書本裝訂、一次性衛(wèi)生用品行業(yè)、家具行業(yè)、標簽行業(yè)等領(lǐng)域。隨著平面顯示器尤其是液晶顯示器(LCD)工業(yè)的飛速發(fā)展,每一個液晶顯示器的面板都包括了如下部分:

彩色過濾器、偏光片、背光單元和IC驅(qū)動。這些部件的很多部分是通過不同的涂布方法來生產(chǎn)的。例如,光學(xué)薄膜防反射、防眩光和硬涂層保護薄膜。

 

不同光學(xué)膜產(chǎn)品不同涂布方式的選擇

 

1、具有微結(jié)構(gòu)光學(xué)膜產(chǎn)品的涂布方式


(1)棱鏡膜又稱增亮膜(BEF),涂布特點是棱鏡膜涂布厚度為:基材:PET薄膜 38~250μm,涂布方式為輥涂,最好選用三輥涂布。

(2)擴散膜(包括上擴散和下擴散膜),擴散膜涂布厚度通常在10~20um ,技術(shù)規(guī)范給出的厚度誤差為±5%,減去基材厚度誤差的1%后,還剩下4%,厚度誤差小(<2um),一般采用刮刀輥涂布,涂布厚度調(diào)節(jié)范圍大,適應(yīng)涂布厚度10~30um,涂料粘度20~100s的各類膠水的涂布。計量輥涂布有線輥和網(wǎng)紋輥涂布,適應(yīng)涂布厚度在10um左右,粘度低于20s的各類膠水的涂布。最好選用計量輥涂布和狹縫涂布方式。


2、做平面涂布的光學(xué)膜產(chǎn)品的涂布方式


硬化膜類:LCD抗反射膜AR,LR(抗炫AG),IMD手機外殼表面抗刮和耐磨層。涂布特點:涂布量小,均勻。硬涂層的厚度在0.5-50μm之間的厚度是正常的,在1-20μm和2-10μm之間是比較合適的,但最好是在3到7μm之間。涂布可選用:微凹版、狹縫涂布、逗號刮刀等,最好的涂布方式是為了對膠水的適應(yīng)性廣,同時配備兩種涂布頭,選用微凹版和狹縫涂布。


涂布機設(shè)計工藝流程:


1、雙工位PET光學(xué)膜基材放卷→自動換卷裁切→表面電暈處理→糾偏→牽引及張力分隔→微凹版涂布頭(涂膠量小,粘度低時使用)→狹縫涂布頭(涂膠量大及粘度高時使用)→真空吸附輥牽引→21M熱風(fēng)干燥→UV固化→糾偏→與保護膜復(fù)合→噴碼→收卷            保護膜放卷→糾偏

2、在硬化層涂布完成后再在背面涂布硅膠→與離型膜復(fù)合

涂布形式:微凹版涂布(MICRO GRAVURE)+ 狹縫涂布(SLOT DIE) 


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